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太陽能電池的芯片材料及轉(zhuǎn)換效率怎么算

鉅大鋰電  |  點(diǎn)擊量:0  |  2019年08月12日  

太陽能電池的芯片材料及轉(zhuǎn)換效率怎么算?


1、晶體硅(單晶硅和多晶硅)太陽能電池:

2004年晶體硅太陽能電池占總量的84.6%,生產(chǎn)技術(shù)成熟,是光伏產(chǎn)業(yè)的主導(dǎo)產(chǎn)品。在光伏產(chǎn)業(yè)中占據(jù)著統(tǒng)治地位。

對(duì)于高效單晶硅太陽能電池,國際公認(rèn)澳大利亞新南威爾士大學(xué)達(dá)到了最高轉(zhuǎn)換效率為24.7%,目前世界技術(shù)先進(jìn)產(chǎn)品轉(zhuǎn)換效率為19-20%。對(duì)于多晶硅太陽能電池澳大利亞新南威爾士大學(xué)多晶硅電池效率已突破19.8%,技術(shù)先進(jìn)產(chǎn)品的效率為15-18%。


2、非晶體硅太陽能電池:

α-Si(非晶硅)太陽能電池一般采用高頻輝光使硅烷分解沉積而成。由于分解溫度低(250-5000C),可在薄玻璃、陶瓷、不銹鋼和塑料底片上沉積1um厚的薄膜,且易于大面積化。非晶硅太陽能電池多數(shù)采用pIN結(jié)構(gòu),有時(shí)還制成多層疊層式結(jié)構(gòu)。

非晶硅太陽能電池大量生產(chǎn)的大面積產(chǎn)品的轉(zhuǎn)換效率為10-12%,小面積產(chǎn)品轉(zhuǎn)換效率已提高到14.6%,疊層結(jié)構(gòu)電池的最高效率為21%。


3、砷化鎵(GaAs)太陽能電池

GaAs太陽能電池多數(shù)采用液相外延法或MOCVD技術(shù)制備,GaAs太陽能電池的效率可高達(dá)29.5%,一般在19.5%左右。產(chǎn)品具有耐高溫和抗輻射特點(diǎn),但生產(chǎn)成本較高,產(chǎn)量受限,主要用作空間電源。以硅片為襯底,擁MOCVD方法制造GaAs/Si異質(zhì)結(jié)太陽能電池是降低成本很有希望的方法,最高效率23.3%,GaAs疊層結(jié)構(gòu)的太陽能電池效率接近40%。


4、其他化合物半導(dǎo)體太陽能電池:

這方面主要有CIS(銅銦硒)薄膜、CdTe(碲化鎘)薄膜和Inp(磷化銦)太陽能電池等。這些太陽能電池的結(jié)構(gòu)與非晶硅電池相似。但CIS薄膜一般厚度為2-3um,已達(dá)到的轉(zhuǎn)換效率為17.7%。CdTe薄膜很適合于制作太陽能電池。其理論轉(zhuǎn)換效率達(dá)30%,目前國際先進(jìn)水平轉(zhuǎn)換效率為15.8%,多用于空間方面。2004年世界各種太陽能電池產(chǎn)量的種類分布如表2

表22004年世界各種太陽能電池產(chǎn)量的種類分布


序號(hào)太陽能電池種類總產(chǎn)量(MW)百分比(%)

1單晶硅平板電池314.428.6

2多晶硅平板電池669.256.0

3非晶硅(室內(nèi)室外)47.13.9

4帶硅電池41..03.4

5CdTea(碲化鎘)電池13.01.1

6CIS(銅銦硒)3.00.25

7非晶硅/單晶硅電池80.06.7

總量1195.2100

(七)、提高太陽能電池效率的特殊技術(shù):

晶體硅太陽能電池的理論效率為25%(AMO1.0光譜條件下)。太陽能電池的理論效率與入射光能轉(zhuǎn)變成電流之前的各種可能損耗的因素有關(guān)。其中,有些因素由太陽能電池的基本物理決定的,有些則與材料和工藝相關(guān)。從提高太陽能電池效率的原理上講,應(yīng)從以下幾方面著手:

1、減少太陽能電池薄膜光反射的損失

2、降低pN結(jié)的正向電池(俗稱太陽能電池暗電流)

3、pN結(jié)的空間電荷區(qū)寬度減少,幷減少空間電荷區(qū)的復(fù)合中心。

4、提高硅晶體中少數(shù)載流子壽命,即減少重金屬雜質(zhì)含量和其他可作為復(fù)合中心的雜質(zhì),晶體結(jié)構(gòu)缺陷等。

5、當(dāng)采取太陽能電池硅晶體各區(qū)厚度和其他結(jié)構(gòu)參數(shù)。

目前提高太陽能電池效率的主要措施如下,而各項(xiàng)措施的采用往往引導(dǎo)出相應(yīng)的新的工藝技術(shù)。

(1)選擇長(zhǎng)載流子壽命的高性能襯底硅晶體。

(2)太陽能電池芯片表面制造絨面或倒金字塔多坑表面結(jié)構(gòu)。電池芯片背面制作背面鏡,以降低表面反射和構(gòu)成良好的隔光機(jī)制。

(3)合理設(shè)計(jì)發(fā)射結(jié)結(jié)構(gòu),以收集盡可能多的光生載流子。

(4)采用高性能表面鈍化膜,以降低表面復(fù)合速率。

(5)采用深結(jié)結(jié)構(gòu),幷在金屬接觸處加強(qiáng)鈍化。

(6)合理的電極接觸設(shè)計(jì)以達(dá)到低串聯(lián)電阻等。


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