日本納米壓印設(shè)備廠商Itrix在正在舉行的展會(huì)“第22屆FinetekJapan”上，公開了尺寸為700mm×400mm（相當(dāng)于30英寸）的石墨烯薄膜。該公司代表董事社長(zhǎng)長(zhǎng)谷川正治表示，“此

日本納米壓印設(shè)備廠商Itrix在正在舉行的展會(huì)“第22屆Finetek Japan”上，公開了尺寸為700mm×400mm（相當(dāng)于30英寸）的石墨烯薄膜。該公司代表董事社長(zhǎng)長(zhǎng)谷川正治表示，“此次公開的是單層石墨烯薄膜。光透射率為97.5％”。

此次公開的石墨烯薄膜由韓國(guó)Graphene Square公司制造。Itrix還展出了由Graphene Square公司生產(chǎn)的、可在A4尺寸銅（Cu）箔上制造石墨烯薄膜的CVD設(shè)備。長(zhǎng)谷川說(shuō)道：“聽說(shuō)該設(shè)備在韓國(guó)已經(jīng)賣出了100臺(tái)”。

在PET基板上成膜的30英寸（700mm×400mm）石墨烯薄膜。左圖薄膜中有石墨烯的部分（右半部分）與沒有石墨烯的部分（左半部分）的放大照片。隱約可以看出光的反射率不同。Graphene Square公司的A4尺寸石墨烯薄膜（銅箔上）制造設(shè)備。左圖制造設(shè)備的內(nèi)部。石墨烯薄膜的制造流程是，先將銅箔卷成卷放入這個(gè)透明的石英管內(nèi)，加熱至約1000℃，然后再輸入甲烷（CH4）氣體。不同基板上的石墨烯。左側(cè)是玻璃基板，右側(cè)是PET基板。左側(cè)是銅箔上的石墨烯，右側(cè)是SiO2晶圓上的石墨烯。