圖1：硫摻雜的示意圖

碳基材料由于資源豐富、價格低廉同時又環(huán)境友好被視為最具發(fā)展?jié)摿Φ拟c離子電池負極材料，硬碳、炭黑、碳纖維、石墨烯等相繼見諸報端。不幸的是，大多數(shù)碳材料在不同程度上存在首次庫倫效率低和循環(huán)性能差的問題，而雜環(huán)原子(例如B,N,S,P)的摻雜可改善上述問題，因為它能提高導(dǎo)電性，同時又能引入結(jié)合鈉離子的活性位點，氮摻雜的碳基材料被廣泛研究并在作為鈉電負極時展現(xiàn)出重大進步。

與氮相比，硫擁有更大的原子尺寸和更小的電負性，摻雜時更有利于增大層間距、引入活性位點、增強碳基材料的電學(xué)性能。從雙元素摻雜的協(xié)同效應(yīng)的角度來看，N/S共摻雜是實現(xiàn)高導(dǎo)電性和擴大層間距的有效方式。但是，通常用含硫的前驅(qū)體作為硫源，僅能通過擴大層間距來提高鈉的嵌入，不能提供額外的的法拉第反應(yīng)來進一步提高儲鈉容量。

為解決此類問題，南開大學(xué)周震教授團隊采用了一種完全不同的方式進行硫摻雜——在H2S氣氛下熱處理富氮碳納米片。

圖2：氮硫摻雜對碳材料層間距的影響

該方式利用氣-固反應(yīng)直接將吡咯N取代為S，通過形成-C-S-C-鍵的形成來提高S的利用率(如圖1所示)，增大層間距的同時(圖2)提供更多的活性位點來滿足高度可逆的儲鈉反應(yīng)，因此該氮硫共摻雜的多孔碳納米片(S-N/C)用作鈉電負極時展現(xiàn)出高容量和優(yōu)異的倍率性能。

圖3：S-N/C電化學(xué)性能

從S-N/C的CV中可以看出，與N/C相比，S-N/C在1.05V有一個還原峰，對應(yīng)Na+與連結(jié)在碳基底上的S之間的反應(yīng)，在1.8V有一個氧化峰，表明S-N/C的部分容量是由Na+與S之間的法拉第反應(yīng)貢獻。在50mA/g的電流密度下，穩(wěn)定容量可保持在350mAh/g左右，即使電流密度提高到10A/g，容量仍可維持在110mAh/g左右，展現(xiàn)出優(yōu)異的倍率性能。